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(1)活性炭吸附法的净化率达到95%以上，如果没有再生装置，运行费用过高(2)液体吸收法的净化率只有60%-80%，该方法实际应用吸收效率低，油雾夹带现象，一般难以达到国家排放标准，而且存在二次污染问题(3)催化燃烧法的净化率也达到95%，但适合处理高浓度、小风量、废气温度高的有机废气，涂装废气中的三苯浓度一般低于300mg/m3目前，大多数工厂在处理涂装废气时采用水帘清洗装置和颗粒炭吸附法，水帘清洗法处理后的涂装废气一般不符合大气污染物排放标准GB16297-96的标准。

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有机废气主要来源于光刻、显影、蚀刻和扩散等工序，在这些工序中用有机溶液(如)清洗晶片表面，挥发产生的废气是有机废气的来源之一:同时，在光刻、蚀刻等过程中使用的光阻剂(光刻胶)中含有易挥发的，如醋酸丁酯等有毒废气主要来源于晶体外延、干法蚀刻和CVD等工序，在这些工序中应用(SiH4)、磷烷(PH3)、四氟化碳(CF4)、、三氯化硼等多种高纯度特殊气体处理晶体，部分特殊气体具有性、窒息性和腐蚀性。

其主要品种有合成(如喹诺酮类、类等)、物、物(如类、苯并氮杂卓类、氨基甲酸酯类等)、抗等16个品种约为千个品种。化学合成制药企业的主要废气污染源包括蒸馏、蒸发浓缩工段产生的有机不凝固气体合成反应、分离提取过程产生的废气盐酸、氨水调节pH值产生的酸碱废气粉碎、干燥排出的粉尘污水处理厂产生的恶臭气体。化学合成工序的主要大气污染物有颗粒物、和氨等无机物，以及化学合成所用的有机原料和，如乙醇、、甲醛等。