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发布时间:2022-04-14 08:10:00 作者:华蓝环保
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由于半导体技术对操作室的清洁度要求极高,通常使用鼓风机技术中挥发的各种废气,因此半导体行业的废气排出具有排出量大、排出浓度小的特点。这些废气排放主要分为酸性气体、碱性气体、有机废气和有毒气体4种。酸碱废气主要来自扩散、CVD、CMP、蚀刻等工序,这些工序用酸碱清洗液清洗晶片。目前,半导体制造技术中常用的清洗溶剂是和硫酸混合剂。这些工序产生的废气包括硫酸 、盐酸、磷酸等挥发气,碱性气体为氨。
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其主要品种有合成(如喹诺酮类、类等)、物、物(如类、苯并氮杂卓类、氨基甲酸酯类等)、抗等16个品种约为千个品种。化学合成制药企业的主要废气污染源包括蒸馏、蒸发浓缩工段产生的有机不凝固气体合成反应、分离提取过程产生的废气盐酸、氨水调节pH值产生的酸碱废气粉碎、干燥排出的粉尘污水处理厂产生的恶臭气体。化学合成工序的主要大气污染物有颗粒物、和氨等无机物,以及化学合成所用的有机原料和,如乙醇、、甲醛等。
今天,小编介绍VOCs管理的问题和难点。1.VOCs管理管理的难点1)VOCs的种类复杂,其排放源也大不相同。以我们熟悉的煤为例,不同企业的煤使用排放物为SO、NO,但不同企业的VOCs排放因其原料、生产工序而异。有些企业排放的VOCs以酚、二为主,有些企业排放的VOCs以酮类为主。这样,VOCs的管理比单一污染物更难。
据中国新通报,到目前为止,大气污染防治强化监督组已经完成了10次监督工作,共检查了约4.2万家企业和公司,一半以上的企业和公司存在环境问题。其中,3310家企业存在挥发性有机物(VOCs)管理问题,占前10次检查发现环境问题总数的14.5%,管理设施、管理设施运行不规范的情况仍然很普遍。
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